一、光學(xué)元件清洗劑的應(yīng)該具備的性能
1 首先應(yīng)有很好的去油去垢性能，滿足光學(xué)元件表面對高清潔度的技術(shù)要求；
2對設(shè)備和玻璃表面沒有腐蝕，不會對元件表面構(gòu)成新的污染；
3清洗劑的清洗能力、在清洗溫度下的化學(xué)穩(wěn)定性、濁點等在使用過程中應(yīng)長期保持穩(wěn)定，其持效性在因素變化的寬范圍內(nèi)能保持穩(wěn)定。
4、對環(huán)境無污染，對操作者無毒害。
三．實驗部分
1原料
主要以去污能力好，對玻璃不腐蝕，生物降解性能好的非離子和陰離子表面活性劑復(fù)配，并加入非磷酸鹽助劑所形成。按照不同清洗對象試驗調(diào)整清洗劑的配方。
2、超聲波清洗劑去污能力實驗
主要對被清洗物(光學(xué)元件)進行人工污染，在超聲波清洗工藝條件下，進行模擬試驗．確定其相對去污效果。
方法采用經(jīng)手工清擦檢驗合格的光學(xué)棱鏡(K9玻璃)，分別在鏡面上制造人工污染(手輔印、唾液圈，水漬印)。放置24小時以上，采用臺式CFS－80型超聲波清洗機(功率為80W）用收集到的不同產(chǎn)地不同牌子的清洗劑進行同等條件下的去污試驗，然后檢驗比較去污能力的優(yōu)劣。
大量試驗數(shù)據(jù)統(tǒng)計表明．在相同模擬試驗條件下．不同牌號清洗劑綜臺去污力有著顯著區(qū)別。選用什么類型洗滌劑作為光學(xué)元件超聲波清洗劑無疑是十分重要的。然而一般情況下，對指印都具有良好的去污力。而對水漬印唾液印，由于化學(xué)作用在光學(xué)元件表面產(chǎn)生的腐蝕
性“斑點”，大多數(shù)清洗劑去污效果均不佳。在模擬試驗的基礎(chǔ)上．將綜合去污力在80％以上的幾種類型洗滌劑解剖其配方。由我公司試制出幾種光學(xué)元件超聲波清洗劑。
3、、清洗劑對光學(xué)元件的腐蝕性試驗
光學(xué)元件所用的玻璃材料．大量被采用的是冕牌玻璃(如BaK3等)或火石玻璃(如ZF5等)。由于堿金屬和堿土金屬氧化物(以R表示)進入玻璃硅氧網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)，使硅氧四面體表組成的網(wǎng)絡(luò)斷裂。
然而R－O連接鍵的強度較Si-O共價鍵弱得多，因此其化學(xué)穩(wěn)定性遠比純石英玻璃差。當使用超聲波清洗方式時，由于清洗劑中某些組分在水中離解，產(chǎn)生正負離子或酸堿度，玻璃表面堿金屬或堿土金屬離子可能被選擇性的溶解。玻璃原始結(jié)構(gòu)被破壞從而元件表面出現(xiàn)不規(guī)則的“毛路”或“斑點”。因此．清洗劑對光學(xué)玻璃材料的腐蝕程度是衡量清洗劑質(zhì)量的重要指標之。
3 1在靜態(tài)條件下，清洗液對玻璃的相對腐蝕性試驗方法：玻璃用鋼缽研碎，經(jīng)20～40目篩分．顆粒度為1－0.4mm試樣，用無水乙醇浸泡，沖洗，棄出懸浮物，烘干待用。
準確稱取上述處理過的玻璃試樣2.0000g．置于4.0ml燒杯中．加1％清洗液200mL，蓋上表面皿，在50℃水浴中保溫1小時，用已恒定的4#玻砂坩堝過濾，蒸餾水洗至中性．于100一105℃烘箱中烘干．稱至恒定。測定玻璃被腐蝕失重百分率。
試驗證明：
(1)不同清洗劑在相同條件下，對同種牌號玻璃有不同腐蝕(浸蝕)失重．
(2)同種清洗劑在相同條件下，對不同牌號玻璃浸蝕量也不同。
3 2清洗液在超聲波工作條件下，對玻璃的腐蝕性試驗
3 2 1工藝條件在美國CRST公司制造的超聲清洗設(shè)備上．輸出頻率：40KHz，輸出功率：500w，超聲時間：1～3mm，溫度：45—50℃，清洗液濃度：1％一0 .75％。
3 2 2評價方法．將上述工藝條件下清洗的光學(xué)元件在黑背景燈箱中．1.0w白熾燈照明．用6倍放大鏡目測被清洗元件表面是否產(chǎn)生超聲“毛路”，然后哈氣檢驗有無斑點”。
試驗證明：在超聲清洗相同工藝條件下,不同類別清洗劑的匹配或同類清洗液對不同牌號玻璃腐蝕性不一樣，只有通過試驗來鑒別。
3 3超聲清洗條件下．清洗劑的工藝特性試驗
試驗證明，清洗劑的“濁點”溫度和化學(xué)穩(wěn)定性，也是超聲清洗的重要工藝特性。有的清洗劑在靜態(tài)條件下，1％一0.5％的溶液是透明的。但在超聲條件下．特別是溫度升至最佳超聲定化點(45—50℃)時，清洗液會變混濁。這可解釋為清洗劑中的表面活性劑分子中的酯基、醚基等與水分子之間的氫鍵，因超聲條件下，溫度升高而斷裂，產(chǎn)生脫水現(xiàn)象，使活性劑溶解度降低所造成的。
清洗液出現(xiàn)混濁(濁點），不僅去污力大大降低，而且會在元件表面形成新的污垢(小白點）。試驗證明超聲條件下，清洗劑出現(xiàn)渾濁(濁點）時的溫度，較在靜態(tài)下的濁點溫度提高5—8℃，且能破壞其化學(xué)穩(wěn)定性。超聲清洗劑的濁點一般要高于超聲清洗時的溫度(40～50℃}8～10℃為宜。
四。討論與回顧
1、以上著重介紹了光學(xué)元件超聲波清洗劑及相關(guān)的～些問題，清洗劑的配方性能是主要的。然而，超聲清洗工藝參數(shù)的調(diào)整．清洗劑濃度的改變．不同牌號玻璃元件，都能導(dǎo)致清洗效果發(fā)生變化。要選定種適用于不同牌號光學(xué)玻璃元件．在不同工藝條件的特效清洗劑，取得好的清洗效果是困難的。
2、隨著光學(xué)事業(yè)的發(fā)展；士大光學(xué)冷加工過程中的傳統(tǒng)清洗方法也適應(yīng)生產(chǎn)發(fā)展需要。改變落后的清洗方法是當務(wù)之急。經(jīng)過十余年的努力，云南光電輔料有限公司已開發(fā)出了光學(xué)元件清洗劑系列產(chǎn)品，基本滿足了冷加工過程中的清洗要求。從單件手工洗變?yōu)槌杀P機器洗；
從有機溶劑清洗改變?yōu)樗苄郧逑?。提高了生產(chǎn)效率，保證了安全。
3、新技術(shù)、新工藝改變了落后的生產(chǎn)方式，提高了生產(chǎn)效率。
